L'obiettivo IPLAN 50X10 NIR è un obiettivo per microscopio planapocromatico a correzione all'infinito di alta qualità, progettato per applicazioni di imaging nel vicino infrarosso (NIR) e lavorazione laser dei materiali. Con un ingrandimento di 50X e un'apertura numerica (NA) di 0,67, offre una risoluzione eccezionale (limite di diffrazione ~0,5 µm a 550 nm) mantenendo una distanza di lavoro pratica di 10 mm, ideale per l'ispezione di wafer spessi, l'osservazione delle interazioni laser-materiale e l'integrazione in celle di automazione industriale.